웨이퍼 척 테이블용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법(Cleaning liquid for wafer chuck table and chemical cleaning method of wafer chuck table using the same) > 판매

기술분야

본 발명은 웨이퍼 척 테이블(wafer chuck table)용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 반도체 제조공정에서 웨이퍼 척 표면에 증착된 오염물을 비-파괴적이면서도 효과적으로 제거 가능한 웨이퍼 척 테이블용 세정액 및 이를 이용한 웨이퍼 척 테이블의 화학적 세정방법에 관한 것이다.

영어설명

The present invention relates to a cleaning liquid for a wafer chuck table and a chemical cleaning method of a wafer chuck table using the same, and more particularly, to a cleaning liquid for a wafer chuck table capable of non-destructive and effective removal of contaminants deposited on the surface of the wafer chuck in a chemical cleaning method of the wafer chuck table using the same.

일본어설명

本発明はウェハーチャックテーブル(waferchucktable)用洗浄液及びこれを利用したウェハーチャックテーブルの化学的洗浄方法に関するもので、より具体的には、半導体製造工程でウェハーチャック表面に蒸着された汚染物を非破壊的ながらも効果的に除去可能なウェハーチャックテーブル用洗浄液及びこれを利用したウェハーチャックテーブルの化学的洗浄方法に関するものである。

중국어설명

本发明涉及一种用于晶片卡盘台(wafer chuck table)的清洁液和使用该清洁液的晶片卡盘台的化学清洁方法,更具体地,涉及一种能够在半导体制造工艺中非破坏性地有效地去除沉积在晶片卡盘表面上的污染物的晶片卡盘台用清洁液以及使用该清洁液的晶片卡盘台的化学清洁方法。

프랑스어설명

La présente invention se rapporte à une solution de nettoyage pour la table de tri des gaufrettes et à une méthode de nettoyage chimique pour la table de tri des gaufrettes. Plus précisément, une solution de nettoyage non destructive mais efficace pour éliminer le polluant déposé à la surface de la table de tri des gaufrettes dans le processus de fabrication des semi-conducteurs.

독일어설명

Die Erfindung betrifft ein chemisches Reinigungsverfahren für Wafer Chuck-Tische und ein Verfahren zur Reinigung von Wafer Chuck-Tischen, bei dem bei der Herstellung von Halbleitern gelagerte Verunreinigungen auf der Oberfläche des Wafer Chuck-Tisches nicht-destruktiv und wirksam entfernt werden können.